【摘 要】
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采用脉冲电沉积方法，以N，N-二甲基甲酰胺（DMF）体系为电镀介质，研究了电极距离、溶剂DMF的体积、沉积时间、铀的质量浓度、阴极材料等对镀层性能和铀沉积率的影响，得到在DMF中脉冲分
【机 构】
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中国原子能科学研究院放射化学研究所
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采用脉冲电沉积方法，以N，N-二甲基甲酰胺（DMF）体系为电镀介质，研究了电极距离、溶剂DMF的体积、沉积时间、铀的质量浓度、阴极材料等对镀层性能和铀沉积率的影响，得到在DMF中脉冲分子镀铀的最佳条件，制备得到的靶面平整、牢固。用扫描电镜分析了铀靶的形貌和组成，采用测厚仪分析了铀靶厚度的均匀性。结果表明，在脉冲电沉积中，铀是非均匀沉积，靶面密度为0．2～2．0mg／cm^2。
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