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介绍了一种新型的定偏心式的锡磨盘的超精密平面抛光工艺。在建立了平面材料去除和抛光轨迹的数学模型的基础上，对微晶玻璃进行工艺实验。通过调整影响其精度的工艺装备及工艺参数，能够获得平面度为０．０４～０．０６μｍ ／３０ｍ ｍ ，表面粗糙度为Ｒａ０．３０ｍ ｍ 。
超光滑高精度微晶玻璃的平面抛光工艺
【摘 要】
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介绍了一种新型的定偏心式的锡磨盘的超精密平面抛光工艺。在建立了平面材料去除和抛光轨迹的数学模型的基础上，对微晶玻璃进行工艺实验。通过调整影响其精度的工艺装备及工艺
【机 构】
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超精密加工技术国防科技重点实验室; 中国科学院长春光学精密机械研究所;
【出 处】
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制造技术与机床
【发表日期】
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1999年12期
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