【摘 要】
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研究磁控溅射法制备的Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al电阻薄膜在模拟的碱性环境（NaOH溶液）中,介质溶液浓度和温度对薄膜电学稳定性的影响及其机理。结果表明：经热处理后呈纳米晶结构的2
【机 构】
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昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室,上海交通大学材料科学与工程学院,昆明理工大学机电工程学院
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研究磁控溅射法制备的Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al电阻薄膜在模拟的碱性环境（NaOH溶液）中,介质溶液浓度和温度对薄膜电学稳定性的影响及其机理。结果表明：经热处理后呈纳米晶结构的2种薄膜在低温低浓度的碱性溶液中具有较好的电学稳定性和耐腐蚀性能,但是,随着溶液浓度和温度的增大其电学稳定性和耐腐蚀性能急剧下降,特别是在高温高浓度的碱性溶液中薄膜在很短时间内就出现性能劣化现象;2种薄膜在低温低浓度的碱性溶液中能够迅速地在膜层表面形成稳定的钝化保护层,从而有效地抑制溶液离子对薄膜内层的进一步腐蚀;而在高
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