用于氢同位素纯化的Pd—Zr选择渗氢复合膜

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为了获得低成本、高渗氢率、长寿命、高强度的选择渗氢膜,耐熔金属锆(Zr)被选作复合膜的基体.在真空度为3.0×10-7Pa下,采用离子轰击刻蚀去除其表面氧化层,实验发现在其表面上仍有少量氧化锆的存在.在真空度为6.6×10-6 Pa下,采用离子溅射镀膜法,在锆片直径为50 mm、厚度为0.23 mm的双表面上分别镀上了一层厚约400 nm的钯薄膜.采用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对锆表面及复合膜表面进行了分析.渗氢实验显示这种复合膜的渗氢系数φ为9.917×
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