PG-300去应力抛光系统的结构设计与优化

来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户：neverdrop920

【摘要】

：

介绍了集成于减薄抛光一体机中的PG-300去应力抛光系统的主要结构及技术特点,主要包括抛光头主轴部分的正向设计,论述了花键轴的安装结构及调平方法,导向轴的设计安装等.并通

【作者】

：

杨师李伟王铮史霄

【机构】

：

中国电子科技集团公司第四十五研究所

【出处】

：

电子工业专用设备

【发表日期】

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2015年10期

【关键词】

：

集成电路制造设备去应力抛光主轴机架 IC manufacturing equipment Stress-relieve polishing Axis

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介绍了集成于减薄抛光一体机中的PG-300去应力抛光系统的主要结构及技术特点,主要包括抛光头主轴部分的正向设计,论述了花键轴的安装结构及调平方法,导向轴的设计安装等.并通过运用有限元软件对该抛光头机架进行受载情况仿真,消除了抛光过程中结构变形对抛光效果的影响,进而在理论和实践两个方面确定了该机架已达到设计要求.

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