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光罩大厂Photronics日前表示，将在2006年上半年之前，选择在韩国的京畿道华城或Bundang地区投资3亿美元兴建光罩（Photomask）厂。并计划自2007年即可开始生产45纳米、65纳米级光罩。该公司并表示，于韩国兴建的工厂约在6，000平方米至10．000平方米之间，未来生产的产品除韩国外，也将供应其他海外地区。