活性填料铬在取碳硅烷裂解陶瓷中的应用

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研究了活性填料铬(Cr)在聚碳硅烷(PCS)先驱体裂解陶瓷中的应用。研究表明,活性填料Cr能有效降低陶瓷素坯的气孔率。Cr可与PCS气态裂解产物和N2气氛反应生成新的化合物,可明显提高PCS的陶瓷产率。当Cr/PCS为35%vol时,坯体的陶瓷产率为100%。在先驱体中引入Cr能有效地抑制坯体在裂解过程中的收缩。Cr含量越高,素坯裂解后的收缩越小。当Cr/PCS为46%vol时,素坯在裂解前后线收
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