离子轰击铜-镍合金影响层的研究

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利用最小二乘法计算机拟合法,研究了铜-镍合金在离子轰击下,其表面铜、镍元素的浓度变化。表面分析用扫描俄歇微探针PHI-590型进行。研究证明:在影响层内元素的分布是不均匀的,影响层厚度大于15(?)A,并且这种不均匀的分布随轰击离子能量变化而变化。在停止轰击的40分钟内,未见表面元素变化。从铜-镍合金的俄歇谱分析可知,合金能带的刚性能带理论并不适合本研究系统。
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