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CMOS4000及54HC器件的总剂量辐照响应特性比较
CMOS4000及54HC器件的总剂量辐照响应特性比较
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chaixiaoliyanqiong
【摘 要】
:
通过对CMOS 4000、54HC系列门电路进行不同偏置条件下的电离辐照实验,比较了电离辐照环境中CMOS 4000和54HC系列电路的总剂量辐照响应特性,对其响应差异进行了较深入的机理研
【作 者】
:
王改丽
余学峰
任迪远
郑玉展
孙静
文林
【机 构】
:
新疆理化技术研究所,中国科学院研究生院,新疆大学物理学院
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
2008年5期
【关键词】
:
CMOS
总剂量辐射
漏电流
机理
CMOS
Total-dose-radiation
Leakage-current
Mechanism
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通过对CMOS 4000、54HC系列门电路进行不同偏置条件下的电离辐照实验,比较了电离辐照环境中CMOS 4000和54HC系列电路的总剂量辐照响应特性,对其响应差异进行了较深入的机理研究,并探讨了54HC电路的抗辐射能力测试方法和评判标准。
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