溅射后退火簇状GaN纳米棒的生长及其镁的作用

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采用磁控溅射技术先在硅衬底上制备Ga2O3/Mg薄膜,然后在1000℃时于流动的氨气中进行氨化反应制备GaN薄膜。X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、选区电子衍射(SAED)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)的结果表明采用此方法得到了六方纤锌矿结构的GaN单晶纳米棒。通过扫描电镜(SEM)观察发现纳米棒的形貌,纳米棒的直径在200-600nm之间。我们对镁层的作用进行了简单探讨。
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