Pr3+离子单掺LiLuF4单晶的坩埚下降法生长及光谱性能研究

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【摘要】

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本文应用坩埚下降法技术在全密封铂金坩埚条件下生长了不同Pr3+离子掺杂浓度的高质量LiLuF4单晶.测定了单晶体从420 nm至500 nm的激发光谱.在446 nm光激发下,观察到单晶体480

【作者】

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方立志周雄夏海平胡建旭章践立陈宝玖

【机构】

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宁波大学光电子功能材料重点实验室,大连海事大学物理系

【出处】

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化学物理学报

【发表日期】

：

2019年6期

【关键词】

：

Pr3+离子 LiLuF4单晶光学性能 Pr3+ ionLiLuF4 single crystalOptical spectroscopy

【基金项目】

：

This work was supported by the National Natural Science Foundation of China(No.51772159),the Natural Science Foundation of Zhejiang Province(No.LZ17E020001),K.C.Wong Magna Fund in Ningbo University.

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本文应用坩埚下降法技术在全密封铂金坩埚条件下生长了不同Pr3+离子掺杂浓度的高质量LiLuF4单晶.测定了单晶体从420 nm至500 nm的激发光谱.在446 nm光激发下,观察到单晶体480 nm(3P0→3H4)蓝色发射带、522 nm(3P1→3H5)绿色发射及605nm(1D2→3H4)的红色发射,其对应的平均寿命分别为38.5、37.3和36.8μs.其荧光寿命明显大于Pr3+掺杂的氧化物单晶.同时研究了激发波长和掺杂浓度对发射强度以及色度坐标的影响.获得最佳的Pr3+浓度为~0.5 mol%

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