底面对准曝光机对准系统设计

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微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精度.目前国内外有多种比较成熟的对准技术来满足这一要求,其中底面对准技术作为非常有效的一种而倍受青睐.根据底面对准曝光基本原理,论述了底面对准系统的设计与实现,分析了该系统各个功能块,并详细地介绍了图像处理技术在底面对准中的应用.实测表明,在底面对准曝光机中,该系统运行状况良好.
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