不同退火工艺对AZO膜性能的影响

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掺铝氧化锌(AZO)薄膜由于其独特的光学和电学性能而倍受人们的青睐。本文采用射频磁控溅射技术,制备了综合性能优良的AZO薄膜,通过不同退火工艺处理,研究了其对AZO薄膜的组织结构、电学性能及光学性能的影响。氮气环境下的退火使得AZO膜出现了更为明显的“蓝移”现象,氢气环境下的退火提高了薄膜的导电性。 Zinc-doped aluminum oxide (AZO) films are favored by their unique optical and electrical properties. In this paper, AZO thin films with excellent properties were prepared by RF magnetron sputtering. The effects of AZO thin films on the microstructure, electrical properties and optical properties of AZO films were studied by different annealing processes. Annealing in a nitrogen environment causes a more pronounced “blue shift” phenomenon in the AZO film, and annealing in a hydrogen atmosphere increases the conductivity of the film.
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