sol-gel法制备KTN薄膜厚度及均匀性控制

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利用干涉法、扫描电子显微镜 (SEM)、 X射线衍射 (XRD)等方法分析 sol- gel法制备的 KTN (钽铌酸钾 )薄膜 ,详细分析讨论 gel膜制备及热处理过程各因素对薄膜厚度及均匀性的影响。结果表明控制 gel膜厚度及均匀性的关键是根据溶液黏度的变化及时调整匀胶转速、热处理过程中用低的升降温速度和通氧 ,整个工艺控制容易、重复性好。最终制出的薄膜为表面晶粒大小均匀、排列紧密、厚度一致、纯钙钛矿结构、高取向的KTN薄膜。 The KTN (tantalum potassium niobate) thin films prepared by sol-gel method were analyzed by means of interference method, scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). The effects of various factors on the film thickness and The impact of uniformity. The results show that the key to controlling the thickness and uniformity of gel film is to adjust the spin speed according to the change of solution viscosity. The low temperature rise rate and oxygen permeation during heat treatment are easy to control and the repeatability is good. The final film is made of the surface of uniform grain size, arranged closely, the same thickness, pure perovskite structure, high-oriented KTN film.
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