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ASML与半导体制造厂共同研发,继英特尔成功利用EUV微影技术,在24小时内完成曝光逾600片晶圆之后,台积电也成功在一天内完成600片晶圆曝光。预示全球两家顶级大厂未来采用EUV光刻技术,在10nm的量产关键技术选项中几乎同步,或者说台积电在10nm时顺利赶上业界龙头英特尔。
极紫外光EUV光刻技术促进半导体格局新变化
【摘 要】
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ASML与半导体制造厂共同研发,继英特尔成功利用EUV微影技术,在24小时内完成曝光逾600片晶圆之后,台积电也成功在一天内完成600片晶圆曝光。预示全球两家顶级大厂未来采用EUV
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2015年1期
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