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用微波ＥＣＲ等离子体溅射技术制备透明导电ＺｎＯ（Ａｌ）膜的工艺中，氧气和氩气的流量、膜的生长温度等因素相互制约并严重影响着膜的光电性能。实验得出：存在着一个温度和相应的氧流量区，在此区域内，沉积的ＺｎＯ（Ａｌ）膜既有较高的透光性又有较高的导电性。本工作在一定条件下制备出电阻率约为１０＾－５Ω·ｍ数量级，可见光区域平均透光率Ｔｖｉ约为８５％的透明导电ＺｎＯ（Ａｌ）膜。