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硅片显影设备可以对硅片表面已曝光的光刻胶完成显影腐蚀及清洗处理,但是国内的显影设备大多自动化程度低,难以精确控制显影参数,显影工艺稳定性得不到保证。本文通过对现有设备关键部件的研究论证,设计了一款全自动硅片腐蚀显影设备,提高了显影参数的控制精度,保证了显影工艺稳定性,在实际生产应用中取得了良好的效果。