大尺寸1064 nm 波段HfO2/SiO2高损伤阈值

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:talentcheng
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对大型固体激光装置中的关键器件—大尺寸1064 nm 波段HfO2/SiO2窄带滤光片进行了研究,分析了监控波长对信噪比和光源稳定性的影响。通过优化监控参数,设备监控精度可达到镀制窄带滤光片的需求。制备过程中的薄膜光谱分析表明:随着蒸镀过程的进行,氧化铪(HfO2)的实际厚度会逐渐小于设计值,而二氧化硅(SiO2)的实际厚度则会逐渐大于设计值;这种变化趋势导致的厚度误差会严重影响带通的波形;另外掩模板造成的厚度误差也是影响带通波纹的重要因素之一。通过分析研究和优化以上因素,制备了半峰全宽为5 nm、通光口径达200 mm×200 mm、在1064 nm 处损伤阈值高于19.5 J/cm2(3 ns)的窄带滤光元件。
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