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采用直流磁控溅射技术，制备了厚度为3．8μm的Mo薄膜，并对其在不同温度下进行了退火处理。采用白光干涉仪和SEM对Mo薄膜进行了表征，讨论了不同温度对薄膜表面形貌的影响；利用XRD对Mo薄膜的结构进行了分析。结果表明：随着退火温度由450℃升高到1050℃，晶粒平均尺寸逐渐增大，微曲应力呈减小趋势；在温度高于900℃时，薄膜发生再结晶，同时表面有微裂缝及大量气孔出现；薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高有逐步增大的趋势。