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关于降低功率晶体管正向压降VF和提高芯片粘附强度的研究
关于降低功率晶体管正向压降VF和提高芯片粘附强度的研究
来源 :黑龙江科技信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wff0301
【摘 要】
:
主要阐述了功率晶体管背面多层金属化电极结构,通过降低硅-金属界面态电阻,采用热处理合金手段,进一步降低功率晶体管正向压降VF和热阻Rth,增加芯片粘附强度,提高晶体管的可靠性指
【作 者】
:
董秋杰
顾志刚
【机 构】
:
哈尔滨晶体管厂
【出 处】
:
黑龙江科技信息
【发表日期】
:
2008年3期
【关键词】
:
功率晶体管
芯片
粘附强度
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主要阐述了功率晶体管背面多层金属化电极结构,通过降低硅-金属界面态电阻,采用热处理合金手段,进一步降低功率晶体管正向压降VF和热阻Rth,增加芯片粘附强度,提高晶体管的可靠性指标。
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