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期刊论文
HL—1装置几种杂质特性
HL—1装置几种杂质特性
来源 :核聚变与等离子体物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yangmingmind
【摘 要】
:
本文叙述了用真空紫外光谱方法观测HL-1装置常规、器壁碳化和抽气孔栏三种放电条件下等离子体杂质的变化以及某些杂质的特性。
【作 者】
:
李可华
王全明
【机 构】
:
核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院四川成都,四川成都,四川成都
【出 处】
:
核聚变与等离子体物理
【发表日期】
:
1992年1期
【关键词】
:
VUV光谱
杂质
器壁碳化
抽气孔栏
VUV spectrum
Impurity.
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本文叙述了用真空紫外光谱方法观测HL-1装置常规、器壁碳化和抽气孔栏三种放电条件下等离子体杂质的变化以及某些杂质的特性。
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