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应用IR和XPS对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)、二甲基乙烯基乙氧基硅烷(DMVEOS)和乙烯基三乙氧基硅烷(VTEOS)的等离子体聚合膜结构进行了表征。研究了乙氧取代基对聚合物化学组成和性能的影响。取代基对聚合膜性能的影响,表现在聚合膜表面能和气体透过性上。
取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响
【摘 要】
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应用IR和XPS对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)、二甲基乙烯基乙氧基硅烷(DMVEOS)和乙烯基三乙氧基硅烷(VTEOS)的等离子体聚合膜结构进行了表征。研究了乙氧取代基对聚合物化学组成和
【机 构】
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中国科学院长春应用化学研究所,中国科学院长春应用化学研究所长春130022,长春130022,长春130022
【出 处】
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辐射研究与辐射工艺学报
【发表日期】
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1993年3期
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