论文部分内容阅读
采用矢量法设计了三硼酸锂(LiB3O5,LBO)晶体上1064nm、532nm、355nm和266nm四倍频增透膜.结果表明,在1064nm、532nm、355nm和266nm波长的剩余反射率分别为0.0019%、0.0031%、0.0061%和0.0047%.根据容差分析,薄膜制备时沉积速率准确度控制在+6.5%时,基频、二倍频、三倍频和四倍频波长的剩余反射率分别增加至0.24%、0.92%、2.38%和4.37%.当薄膜材料折射率的变化控制在+3%时,1064nm波长的剩余反射率增大为0.18%,53