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闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述
闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述
来源 :内燃机与配件 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hflx152
【摘 要】
:
2磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子镀过程的
【作 者】
:
巩中宣
【机 构】
:
浙江汇锦梯尔镀层科技有限公司
【出 处】
:
内燃机与配件
【发表日期】
:
2013年1期
【关键词】
:
闭合场非平衡磁控溅射离子镀
技术
镀膜工艺
膜层厚度
负偏压
附着力
成膜
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2磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子镀过程的优点(能改变膜基界面的结合形式,提高膜基附着力,膜层组织致密等)结合在一起,形成了一种斯的精随枯术
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