高硅铝合金和合金钢中硅的快速测定

来源 :理化检验.化学分册 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hackls
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根据氢氟酸对游离和化合状硅皆有良好分解能力的特点,本文用HCl-HNO_3-HF体系分解试样。以硼酸键合氟离子后,用硅钼蓝双向示差光度法可测定0.05~13%的硅。操作简便,准确度良好。仪器与试剂 521型高含量光电比色计。硫酸亚铁铵溶液:2%,每升含50毫升硫酸。草硫混合酸:20克草酸溶于1升2N硫酸。硅标准溶液:以无水碳酸钠熔融二氧化硅,水浸出后制成1mg Si·ml~(-1)及50μg Si·ml~(-1)的溶液, According to hydrofluoric acid on the free and compound silicon are good decomposition of the ability of the characteristics, this article decomposition of the sample with HCl-HNO 3 -HF system. After the bonding of fluoride with boric acid, silicon molybdenum blue two-way differential spectrophotometric determination of 0.05 to 13% of silicon. Easy to operate, accuracy is good. Instruments and reagents Model 521 high content photoelectric colorimeter. Ferrous ammonium sulfate solution: 2%, containing 50 ml sulfuric acid per liter. Sulfur Mixed Sulfuric Acid: 20 grams of oxalic acid is dissolved in 1 liter of 2N sulfuric acid. Silicon standard solution: anhydrous sodium carbonate fused silica, water leaching made of 1mg Si · ml ~ (-1) and 50μg Si · ml -1 solution,
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