氢退火注碳外延硅发光特性研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：a5354796

【摘要】

：

外延硅经过碳注入、氢气氛下高温退火和电化学腐蚀相继处理之后,发出位于431 nm左右的蓝色荧光峰.随电化学腐蚀条件的增强,蓝色荧光峰先变强后消失,并出现位于716 nm处的红光

【作者】

：

王强李玉国石礼伟薛成山

【机构】

：

山东师范大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2005年2期

【关键词】

：

碳注入氢退火电化学腐蚀纳米硅镶嵌结构 C plus implantation annealing in hydrogen ambience chemica

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外延硅经过碳注入、氢气氛下高温退火和电化学腐蚀相继处理之后,发出位于431 nm左右的蓝色荧光峰.随电化学腐蚀条件的增强,蓝色荧光峰先变强后消失,并出现位于716 nm处的红光峰.样品中随碳注入而注入的杂质C=O复合体镶嵌在退火过程所形成的纳米硅颗粒的表面,形成典型的纳米硅镶嵌结构.正是这种结构导致了蓝光发射.

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