【摘 要】
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本文将通过世界IC工艺装备的发展趋势和国内现状的分析 ,从十五“863”重大专项的角度 ,对我国的IC装备发展战略进行探讨。提出以100nm的光刻机等关键设备为战略目标 ,以自主
【机 构】
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清华大学制造工程研究所,清华大学制造工程研究所
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本文将通过世界IC工艺装备的发展趋势和国内现状的分析 ,从十五“863”重大专项的角度 ,对我国的IC装备发展战略进行探讨。提出以100nm的光刻机等关键设备为战略目标 ,以自主技术创新突破和产业化为目的 ,实现我国IC装备技术和产业的跨越式发展。
This article will analyze the development trend of IC technology equipment in the world and the current situation in China, and discuss the development strategy of IC equipment in China from the perspective of major projects of the “Tenth Five-year Plan”. Proposed the key equipment such as 100nm lithography as a strategic goal, with independent technological breakthroughs and industrialization as the goal, to achieve China’s IC equipment technology and industry by leaps and bounds.
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