La掺杂对磁控溅射CaB6薄膜的影响

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gdw2009
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利用直流磁控溅射的方法制备掺La和未掺La的Ca1-xLaxB6 (x = 0, 0.01, 0.02, 0.03)薄膜。利用原子力显微镜对薄膜的表面形貌及厚度进行表征。掺La的薄膜的厚度约为未掺杂的两倍; La的掺杂会使薄膜的晶粒尺寸变大。利用X射线光电子能谱对薄膜表面的化学组成进行检测。薄膜中Ca/La比接近理论值, 没有检测到其它的铁磁性杂质及元素, 尤其是Fe。Ca0.98La0.02B6薄膜具有最大的室温饱和磁化强度, 强度值为84.54 emu/cm3。同时薄膜的饱和磁化强度值随薄膜厚度的增加
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