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制作聚合物基光子电路的光刻方案可用于制造具有较大的相对折射率差的复杂三维装置。美国大学的AdamUrness及其同事表示：他们的“液体沉积光刻”法能快速制造具有亚微米级分辨率且相对折射率差高达0．1的毫米级结构。
光子学聚合物：液体沉积光刻
【摘 要】
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制作聚合物基光子电路的光刻方案可用于制造具有较大的相对折射率差的复杂三维装置。美国大学的AdamUrness及其同事表示：他们的“液体沉积光刻”法能快速制造具有亚微米级分辨
【出 处】
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中国光学
【发表日期】
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2013年2期
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