【摘 要】
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在碳纳米管场致发射显示器件结构中，需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案。本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程。实验中采用在紫外曝光条件下，对光刻工
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在碳纳米管场致发射显示器件结构中，需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案。本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程。实验中采用在紫外曝光条件下，对光刻工艺中影响其刻蚀结果分辨率的各种因素做出了系统分析。这些因素主要包括了对于感光胶的选择，玻璃表面的清洁度，丝网印刷工艺的操作，紫外光曝光时间的控制，酸腐蚀浓度。通过优化实验工艺，得到满足精度要求的精细条纹，得出最佳的光刻条件。
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