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自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子柬蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响.采用X射线照相技术测试涂层的厚度;XPS测试涂层表面成分;AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度.结果表明:涂层主要成分为B4C,表面较为光滑、均匀;当筛网振动频率为0.25Hz,且电子束蒸发工艺参数定为:真空度P小于3×10^-3Pa,高压U等于6kV,束流I在100mA~