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自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置，用于电子柬蒸发制备碳化硼微球涂层．采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层．研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响．采用X射线照相技术测试涂层的厚度；XPS测试涂层表面成分；AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度．结果表明：涂层主要成分为B4C，表面较为光滑、均匀；当筛网振动频率为0．25Hz，且电子束蒸发工艺参数定为：真空度P小于3×10^-3Pa，高压U等于6kV，束流I在100mA～