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目的在纯钛表面磁控溅射镀制不同Si量的TiSiN膜后，比较纯钛与光固化冠桥树脂Solidex的结合强度，并对其界面进行分析。方法制作3组纯钛试件，1组表面不作处理，另2组分别在不同硅质量分数（9％和19％）下应用磁控溅射设备涂层试样表面后烤塑，采用AGS万能材料试验机测试纯钛与Solidex的剪切结合强度，并应用电子探针显微分析仪和扫描电镜观察镀膜层一树脂界面的表面形貌和分析成分。结果镀膜组结合强度优于未镀膜组Go〈0．05），镀膜组中提高的Si量增加了结合强度，镀膜组中形成致密非晶态TiN、SiN。结论