【摘 要】
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为了应用平板式射频磁控溅射设备制备出良好介电性能的钛酸锶钡(BST)纳米薄膜,研究了溅射过程中不同氧分压(Po2)对沉积薄膜的化学成分、结晶性、表面形貌、电学性能的影响.实验结果
【机 构】
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上海交通大学微纳科学技术研究院、微米/纳米加工技术国家重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室
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为了应用平板式射频磁控溅射设备制备出良好介电性能的钛酸锶钡(BST)纳米薄膜,研究了溅射过程中不同氧分压(Po2)对沉积薄膜的化学成分、结晶性、表面形貌、电学性能的影响.实验结果表明:纯氩无氧气氛沉积的BST纳米薄膜化学成分符合化学计量比,经750℃、30min氧气保护热处理后,呈现出BST材料固有的钙钛矿相,有较高的介电常数(εr=700)和较低的漏电流密度(1.9μA/cm^2);氧氩混合气氛沉积的BST纳米薄膜,由于氧负离子反溅射作用,使薄膜的化学成分偏离化学计量比,经相同热处理后,不能形成相应的晶
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