【摘 要】
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为了应用平板式射频磁控溅射设备制备出良好介电性能的钛酸锶钡（BST）纳米薄膜，研究了溅射过程中不同氧分压（Po2）对沉积薄膜的化学成分、结晶性、表面形貌、电学性能的影响．实验结果
【机 构】
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上海交通大学微纳科学技术研究院、微米／纳米加工技术国家重点实验室、薄膜与微细技术教育部重点实验室
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为了应用平板式射频磁控溅射设备制备出良好介电性能的钛酸锶钡（BST）纳米薄膜，研究了溅射过程中不同氧分压（Po2）对沉积薄膜的化学成分、结晶性、表面形貌、电学性能的影响．实验结果表明：纯氩无氧气氛沉积的BST纳米薄膜化学成分符合化学计量比，经750℃、30min氧气保护热处理后，呈现出BST材料固有的钙钛矿相，有较高的介电常数（εr=700）和较低的漏电流密度（1．9μA／cm^2）；氧氩混合气氛沉积的BST纳米薄膜，由于氧负离子反溅射作用，使薄膜的化学成分偏离化学计量比，经相同热处理后，不能形成相应的晶
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