【摘 要】
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利用MOCVD技术,分别在图形化蓝宝石衬底(PSS)、沉积有AlN薄膜的图形化蓝宝石衬底(PSS-A)和经过选择性刻蚀掉部分AlN的AlN薄膜的图形化蓝宝石衬底(PSS-E)上外延生长GaN。在高
【机 构】
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湖北省计量测试技术研究院,嘉兴法纳斯光电科技有限公司,
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利用MOCVD技术,分别在图形化蓝宝石衬底(PSS)、沉积有AlN薄膜的图形化蓝宝石衬底(PSS-A)和经过选择性刻蚀掉部分AlN的AlN薄膜的图形化蓝宝石衬底(PSS-E)上外延生长GaN。在高倍金相显微镜下面观察了生长的表面形貌,利用AFM测量了外延片表面的粗糙度,对比分析了三种样品(002)面和(102)面XRD的FWHM,然后对三个样品切片,SEM观察了三种样品的剖面图,最终将三种样品衬底的外延片制备成相同产品,对比分析了样品的LED芯片的光电参数。
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