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采用射频磁控溅射法制备了以低功率溅射得到的PbxSr1-xTiO3（PST）薄膜为缓冲层（同质缓冲层）的PST双层薄膜。通过X-射线衍射、扫描电镜、阻抗分析仪和铁电分析仪对薄膜相结构、表面形貌、介电损耗和铁电性能进行了测试分析。结果表明，以低功率溅射得到的PST薄膜作为同质缓冲层的双层薄膜可减少薄膜的缺陷，从而有效降低介电损耗。