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文中对制作MEMS磁传感器过程中涉及的主要设计参数、器件的制备工艺进行了介绍,综述了基于洛伦兹力的各种结构MEMS磁传感器的灵敏度、品质因子、噪声和探测极限等特性,并对其未来发展进行了展望。
基于洛伦兹力的MEMS磁传感器的研究进展
【摘 要】
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文中对制作MEMS磁传感器过程中涉及的主要设计参数、器件的制备工艺进行了介绍,综述了基于洛伦兹力的各种结构MEMS磁传感器的灵敏度、品质因子、噪声和探测极限等特性,并对其
【机 构】
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长春理工大学光电信息学院,集成光电子学国家重点实验室,中国电子科技集团公司第四十九研究所
【出 处】
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仪表技术与传感器
【发表日期】
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2017年11期
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