【摘 要】
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VLSI 用硅片几乎全部由 CZ 法(切克芬斯基法)制备。CZ 法硅单晶中将有来自石英坩埚的氧混入,故可以利用 IG 效应。所以,用 CZ 法能否在拉制的长度方向上和截面内把氧含量控
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VLSI 用硅片几乎全部由 CZ 法(切克芬斯基法)制备。CZ 法硅单晶中将有来自石英坩埚的氧混入,故可以利用 IG 效应。所以,用 CZ 法能否在拉制的长度方向上和截面内把氧含量控制在一定范围内,是个关键。当前 CZ 硅单晶的主要研究方向有如下几点:
Almost all VLSI wafers were prepared by the CZ method (Chek-Finski method). In the CZ single crystal, oxygen from the quartz crucible is mixed, so IG effect can be utilized. Therefore, with the CZ method can be drawn in the length and cross-section of the oxygen content within a certain range, is the key. The current CZ silicon single crystal main research direction has the following points:
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