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以剥层重堆法制备了NH4^＋／MoS2插层复合物．该复合物可以作为长期储存的单层MoS2，同时也可作为先驱体以便插入其它客体分子制成新的插层复合物。通过XRD、热重分析和元素分析等测试技术对该插层复合物进行了表征。结果表明，MoS2经NH4^＋插层后，其层间距由0．615mm增加到0．954mm，由元素分析和热重分析得出插层复合物的组成分别为（NH4^＋）3.1MoS2和（NH4^＋）2.9MoS2。插层复合物在空气中放置30d后，其XRD和热重分析的结果表明该插层复合物的储存稳定性良好。此外，插层复合物