【摘 要】
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随着设计尺寸的缩小，改进曝光场内套准精度变得十分重要。通过跟踪研究每个工艺步骤，发现硅局部氧化工艺对曝光场放大有相当大的影响。对４００－１０００ｎｍ范围的ＬＯＣＯＳ氧估厚度，曝光场放大率约为３．８－４．２＊１０＾６。在这
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随着设计尺寸的缩小，改进曝光场内套准精度变得十分重要。通过跟踪研究每个工艺步骤，发现硅局部氧化工艺对曝光场放大有相当大的影响。对４００－１０００ｎｍ范围的ＬＯＣＯＳ氧估厚度，曝光场放大率约为３．８－４．２＊１０＾６。在这一厚度范围，在放大率与氧化厚度成正比。在２０ｍｍ边长的曝光场，放大值（４＊１０＾－６）等于０．０８μｍ。曝光场四角处的套准精度等于０．０４μｍ。对０．２５μｍ设计尺寸，０．０４μｍ
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