添加SnAl元素与中温烧结对Cr/Zr膜基界面结合强度的影响

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【摘要】

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目的通过在Cr膜中添加SnAl元素及中温液相烧结,提高锆合金膜基界面结合强度。方法在Cr靶中添加SnAl元素,制备一种均匀分布的CrSnAl合金靶材(原子比Cr:Sn:Al=95:4:1),并利用直

【作者】

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严艳芹邱长军胡良斌黄鹤刘艳红李怀林

【机构】

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南华大学机械工程学院,国家电投集团中央研究院

【出处】

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表面技术

【发表日期】

：

2018年12期

【关键词】

：

磁控溅射 CrSnAl合金膜层中温烧结膜层韧性结合强度 magnetron sputteringCrSnAl filmsmedium temperatur

【基金项目】

：

国家科技重大专项(2015ZX06004001-002),湖南省重点学科建设(湘教发[2011]76),湖南省高校重点实验室基金(湘教发[2014]85)

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目的通过在Cr膜中添加SnAl元素及中温液相烧结,提高锆合金膜基界面结合强度。方法在Cr靶中添加SnAl元素,制备一种均匀分布的CrSnAl合金靶材(原子比Cr:Sn:Al=95:4:1),并利用直流磁控溅射(DCMS)技术在锆合金表面制备约5μm厚的CrSnAl膜层,再将CrSnAl膜层试样放入Ar保护气氛炉中进行中温烧结(温度为600℃,时间为30min),随炉冷却至室温。利用XRD、SEM、EDS及体式显微镜分析中温烧结对CrSnAl膜层形貌、组织结构及元素扩散的影响;根据涂层弯曲断裂形貌、切削划痕

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