【摘 要】
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日本已研制成能解决因高集成度而引起信号延迟的电极布线技术。过去的 LSI 靠发展微细加工技术获得高集成度,使栅布线以及扩散层越来越薄,增大了杂质扩散层的电阻,使信号馈
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日本已研制成能解决因高集成度而引起信号延迟的电极布线技术。过去的 LSI 靠发展微细加工技术获得高集成度,使栅布线以及扩散层越来越薄,增大了杂质扩散层的电阻,使信号馈送时间延迟,限制了高速化的进展。新技术是用气相生长法在器件上有选择性
Japan has developed electrode routing technology that solves signal delays caused by high levels of integration. LSI in the past by the development of micro-processing technology to achieve high integration, the gate wiring and diffusion layer thinner and thinner, increasing the resistance of the impurity diffusion layer, the signal feed time delay, limiting the progress of high-speed. The new technology is the use of vapor growth in the device selective
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