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通过磁控溅射法在单晶Si（100）基片上生长了不同厚度的BiFeO_3多晶薄膜,对样品的结构、形貌、磁性进行研究。结果表明,通过改变溅射时间,影响薄膜微观结构。样品薄膜具有平整的表面。室温下,样品呈现反铁磁有序。
磁控溅射法制备多晶BiFeO3薄膜
【摘 要】
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通过磁控溅射法在单晶Si（100）基片上生长了不同厚度的BiFeO_3多晶薄膜,对样品的结构、形貌、磁性进行研究。结果表明,通过改变溅射时间,影响薄膜微观结构。样品薄膜具有平整的
【机 构】
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长春大学
【出 处】
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科技创新与应用
【发表日期】
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2018年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金项目“基于交换偏置作用BiFeO3对NiFe2O4等磁性薄膜的电场调控冶（编号：51302019）,吉林省教育厅“十二五”科学技术研究项目“多铁性BiFeO3薄膜的制备及性能研究冶（编号：2014299）,吉林省产业创新专项资金项目“新型太阳能电池纳米晶薄膜（CZTS）的制备及性质研究冶（编号：2017C052-3）,吉林省省级经济结构战略调整引导资金专项项目“新型多功能碳化物的结
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