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期刊论文
低剂量率下MOS器件的辐照效应
低剂量率下MOS器件的辐照效应
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qwertys
【摘 要】
:
对MOS器件在低剂量率γ射线辐射条件下的偏置效应进行了研究.对不同偏置及退火条件下MOS器件辐照后的阈值电压漂移进行了对比.结果表明,偏置在MOS器件栅氧化层内产生电场,增
【作 者】
:
刘传洋
张廷庆
刘家璐
王剑屏
黄智
徐娜军
何宝平
彭宏论
【机 构】
:
西安电子科技大学,西北核技术研究所,昆仑机械厂
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
2002年1期
【关键词】
:
MOS器件
辐照效应
阈值电压漂移
低剂量率
MOS device
Radiation effect
Threshold voltage shift
Lo
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对MOS器件在低剂量率γ射线辐射条件下的偏置效应进行了研究.对不同偏置及退火条件下MOS器件辐照后的阈值电压漂移进行了对比.结果表明,偏置在MOS器件栅氧化层内产生电场,增强了辐照产生电子-空穴对的分离,同时,影响了正电荷(包括空穴和氢离子)的运动状态;此外,偏置对退火同样有促进作用.
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