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硅表面清洗对7nm热SiO2栅介质可靠性的影响
硅表面清洗对7nm热SiO2栅介质可靠性的影响
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:J2EE_BOY
【摘 要】
:
实验研究了硅表面清洗方式对7nm热氧化SiO2栅介质可靠性的影响。结果表明,稀HF酸漂洗后RCA清洗时降低SC1(NH4OH/H2O2/H2O)温度对提高栅介质可靠性有利,但仍不如用SC2(HCl/H2O/H2O)或H2SO4/H2O2清洗效果好。
【作 者】
:
高文钰
刘忠立
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所传感技术国家重点实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1999年10期
【关键词】
:
二氧化硅
可靠性
热氧化
硅表面清洗
栅介质
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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实验研究了硅表面清洗方式对7nm热氧化SiO2栅介质可靠性的影响。结果表明,稀HF酸漂洗后RCA清洗时降低SC1(NH4OH/H2O2/H2O)温度对提高栅介质可靠性有利,但仍不如用SC2(HCl/H2O/H2O)或H2SO4/H2O2清洗效果好。
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