【摘 要】
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采用超高真空气相沉积系统在Si（100）衬底上制备非晶硒（Se）薄膜,然后快速热退火制得Se纳米晶薄膜。SEM观察结果表明,当热退火温度高于140℃,薄膜表面形貌从条状裂纹逐渐变成孤立的
【机 构】
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华侨大学工学院,黎明职业大学信息与电子工程学院,厦门大学物理系、半导体光子学研究中心
【基金项目】
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福建省自然科学基金面上项目（2015J01655）, 福建省教育厅基金项目（A类）（JA14025,JA13429）, 华侨大学科研基金资助项目（12BS226）
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采用超高真空气相沉积系统在Si（100）衬底上制备非晶硒（Se）薄膜,然后快速热退火制得Se纳米晶薄膜。SEM观察结果表明,当热退火温度高于140℃,薄膜表面形貌从条状裂纹逐渐变成孤立的六角块状结构。Raman和XRD测试分析发现,退火后的Se纳米晶均为三角晶型结构,当退火温度高于140℃时,Se开始沿（100）方向择优取向结晶。分析得出,在Si（100）衬底上的Se晶粒（100）晶面的激活能比（101）晶面的激活能低,因而在（100）面上的结晶速率比（101）面上的结晶速率大,使得Se在（100）方向择
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