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金属盐和氧化物在分子筛孔穴中及内外表面自发形成原子水平的分散，这种自发分散现象已被多种现代仪器分析所证实，并在国内外得到广泛认同。总结相关文献，结合部分研究工作，对金属化合物在分子筛上自发分散的研究作了综述。
金属化合物在分子筛上自发分散的研究进展
【摘 要】
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金属盐和氧化物在分子筛孔穴中及内外表面自发形成原子水平的分散，这种自发分散现象已被多种现代仪器分析所证实，并在国内外得到广泛认同。总结相关文献，结合部分研究工作，对金属
【机 构】
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太原理工大学精细化工研究所
【出 处】
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工业催化
【发表日期】
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2007年5期
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