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综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态.文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面.
磁控溅射法制备碳化钨薄膜的研究及应用进展
【摘 要】
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综述了国内外磁控溅射法制备碳化钨薄膜技术的研究动态.文章认为,磁控溅射碳化钨薄膜今后研究的方向将集中在低温、超硬膜、耐蚀膜、催化性膜等方面.
【机 构】
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浙江工业大学化材学院
【出 处】
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浙江化工
【发表日期】
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2005年1期
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