【摘 要】
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利用磁控溅射方法通过改变沉积温度（Ts）制备一系列纳米ZrN涂层.采用X射线衍射、扫描电镜及CSM纳米力学综合测试系统表征了纳米ZrN涂层的物相结构、截面形貌及综合力学性能,系统
【机 构】
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厦门大学材料学院,厦门大学化学化工学院
【基金项目】
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国家科技支撑计划(2007BAE05B04)
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利用磁控溅射方法通过改变沉积温度（Ts）制备一系列纳米ZrN涂层.采用X射线衍射、扫描电镜及CSM纳米力学综合测试系统表征了纳米ZrN涂层的物相结构、截面形貌及综合力学性能,系统研究了沉积温度对纳米ZrN涂层结构及性能的影响.实验结果表明：随着沉积温度的增加,涂层择优取向由（111）变为（200）,而在600℃时结晶度很低;涂层择优取向的变化是由涂层沉积过程中原子迁移能力和不同取向表面能的差异所决定的.纳米ZrN涂层在Ts=450℃及以下温度区间为柱状结构,并随沉积温度增加柱状晶逐渐变宽,在Ts=600℃
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