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反应离子刻蚀(RIE)Si3N4的研究
反应离子刻蚀(RIE)Si3N4的研究
来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xincuntianxia
【摘 要】
:
反应离子刻蚀工艺是微细加工的普遍工艺,用开制做各种集成电路。本文对用CF_4+O_2为反应气体RIE Si_3N_4进行了研究,取得了较好的结果。
【作 者】
:
余山
章定康
【机 构】
:
陕西微电子学研究所,陕西微电子学研究所
【出 处】
:
电子工艺技术
【发表日期】
:
1991年5期
【关键词】
:
微细加工
离子刻蚀
SIN
集成电路
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反应离子刻蚀工艺是微细加工的普遍工艺,用开制做各种集成电路。本文对用CF_4+O_2为反应气体RIE Si_3N_4进行了研究,取得了较好的结果。
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