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表面活性剂在IC芯片光刻工艺中的应用
表面活性剂在IC芯片光刻工艺中的应用
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:slkhdnfoihsdflwdlk
【摘 要】
:
叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点,重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用.适当加入表面活性剂,在现有设备的条件下可极大地提高光刻质
【作 者】
:
贺开矿
【机 构】
:
杭州士兰集成电路有限公司
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
2005年3期
【关键词】
:
表面活性剂
表面张力
光刻
显影
湿法腐蚀
surfactant
surfacetension
opticallithography
development
w
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叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点,重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用.适当加入表面活性剂,在现有设备的条件下可极大地提高光刻质量,对双极电路以及CMOS电路制作都有着重要的现实意义.
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